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RMNT > Bilan > Résumés 1999RESUMES DES PROJETS LABELLISES EN 1999L'objectif de ce projet est l'introduction, dans le domaine de l'Horlogerie, de l'assemblage par laser. Il s'agit de construire un démonstrateur pour une application type de cette industrie. Pour le faire, ce programme propose d'utiliser les compétences complémentaires des laboratoires de recherche dont les activités concernent les procédés laser (CLFA) et de la micro-mécanique (CTM) et d'un fabricant d'éléments d'horlogerie et de machines outil (CHEVAL FRERES SA). Microtomographe Infrarouge pour Applications Industrielles et Médicales. Le but de ce projet est de réaliser un microtomographe infrarouge utilisant les principes de l’interférométrie en lumière blanche. L’interféromètre est réalisé sur substrat de verre et présente divers avantages fonctionnels : stabilité mécanique et thermique, pas de réglages fastidieux au montage pour l’observation des franges, guidage de la lumière depuis la pupille diffractante jusqu’au détecteur CCD de grande dimension linéaire. Les débouchés de ce développement sont multiples puisque la PME proposante développe et commercialise depuis plus de 15 années des instruments de mesure sans contact dans divers secteurs de l’industrie. Ce projet s’inscrit parfaitement dans la politique de développement de l’entreprise puisque il contribuera à renforcer sa position de leader dans le secteur de la métrologie sans contact rapide et précise. De par le principe physique utilisé, le capteur présentera des propriétés métrologiques supérieures aux appareillages utilisant des lasers : l’effet speckle sera fortement réduit par l’utilisation d’une source polychromatique. En outre, la mesure étant entièrement optique, le temps d’acquisition sera rapide. Les applications visées, à court et moyen termes, sont la profilométrie rapide et précise de pièces de grandes dimensions, la mesure d’épaisseurs de mono & multicouches ainsi que la tomographie optique haute résolution de matériaux pour lesquels l’onde infrarouge est pénétrante ( tissus d’origine biologique, plastiques, polymères etc…). Partenaires du Projet :
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Point de contact : M. Philippe Nerin - p.nerin@fogale.fr ULTImes OXydes (ULTIMOX) : Caractérisation, modélisation et fiabilité des oxydes de grille ultra minces des technologies CMOS 50 nm. Avec la réduction des dimensions des dispositifs CMOS, les diélectriques de grille deviennent de plus en plus minces pour atteindre quelques nanomètres d'épaisseur. Cette réduction des épaisseurs s’accompagne, d’une part, d’un accroissement des courants de fuite par effet tunnel et du phénomène de déplétion dans le polysilicium de grille. D’autre part, elle ne permet plus de négliger les effets de confinement quantique dans le substrat de silicium ou dans le polysilicium de grille. En outre, comme cela a été montré récemment, les mécanismes de conduction et de fiabilité des isolants minces sont profondément modifiés à faible épaisseur ce qui pose des problèmes nouveaux en terme de courant de fuite et de consommation pour les futures technologies CMOS. Ce projet de recherche concerne donc la caractérisation physique et électrique, la modélisation et la fiabilité des diélectriques de grille ultra-minces qui seront employés dans les technologies de la micro-électronique du futur (à savoir le CMOS ultime 30-50 nm) et qui passeront en production industrielle d’ici une dizaine d’années. Partenaires du Projet :
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Point de contact : M. Gérard Ghibaudo - ghibaudo@enserg.fr Le projet EMATI a pour objectif la mise au point de techniques d'encapsulation permettant d'aboutir à la conception d'un microsystème pour la mesure de pression in-vivo, compatible avec un usage unique. Ce microsystème pourra être utilisé dans les systèmes implantables (pression intraoculaire ou intracrannienne), mais aussi pour l'instrumentation à faible coût de sondes médicales (pression endotrachéale, urinaire ou intravasculaire). La réduction continue des dimensions des composants pour la microélectronique silicium conduit à l'utilisation de zones dopées à fort gradient de concentration sur une très faible profondeur : les jonctions doivent être très abruptes, et les dopages se font par implantation à très basse énergie. Dans ces conditions, l'analyse dimensionnelle et compositionnelle par SIMS est fortement entachée d'erreur. D'une part, la résolution en profondeur qui est actuellement de quelques nanomètres n'est pas suffisante, et d'autre part l'analyse des zones superficielles est quasiment impossible, car ces zones se situent dans le transitoire de surface. Il s'agit donc d'améliorer la résolution en profondeur par l'étude de la nature des ions primaires, des conditions d'analyses, et par la mise en uvre d'une procédure de déconvolution numérique, et d'étudier le régime transitoire pour obtenir une analyse quantitative. L'application se fera dans le domaine des jonctions dopées B, As, P, à fort gradient de concentration, et des implantations superficielles B, As, et P. Microsystème de diffusion de produits actifs. Développement d’un microsystème fluidique intégré, pour la diffusion de principes actifs contenus dans des liquides. L’application non limitative décrite est celle d’un diffuseur dans l’air de principes odoriférants, tels que des parfums et odeurs ou des phéromones, à des fins d’agrément, de thérapeutique ou de traitements phytosanitaires, par exemple. Partenaires du Projet :
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Point de contact : M. Jean-Pierre Le pesant - Jean-Pierre.Le-pesant@osmooze.com Le projet a pour objectif le micro-usinage haute précision et haute cadence par laser femtoseconde. Il doit permettre la mise au point des processus d'ablation de plusieurs matériaux (métaux spéciaux et céramiques utilisées par exemple en milieu médical, céramiques piézo-électriques, silicium et matériaux organiques pour la micro-électronique et matériaux pour la micro-mécanique) en utilisant le caractère athermique de l'interaction laser-matière en mode femtoseconde. Ce travail constituera une première étape vers la réalisation de démonstrateurs. Il permettra aux utilisateurs finaux de juger des perspectives industrielles du système d'ablation à impulsions laser ultra-courtes, et ceci dans plusieurs disciplines : découpe, perçage, ajustement. Ce projet cherchera aussi à comparer les différents types de micro-usinage par laser. Ce programme, fédérateur national, a pour but de développer des compétences dans les domaines jugés critiques pour le développement de la lithographie Extrême UV. Cette technologie sera nécessaire à la micro-électronique avancée pour la réalisation de circuits aux dimensions sub-0.1µm. Les objectifs de R & D de PREUVE concernent principalement :
Plusieurs Laboratoires de Recherche Publics et Universitaires, un grand groupe industriel, et deux PME participent à PREUVE :
PREUVE a reçu l'agrément du Gouvernement Français par sa labellisation par le Réseau Micro-Nano Technologies (RMNT) le 21 Juillet 1999. Ce programme est destiné à s'ouvrir à des coopérations nationales et internationales. Les sous-ensembles technologiques développés dans PREUVE ont vocation à être intégrés dans des équipements de lithographie. Aussi, certains domaines actuellement non abordés devront faire l'objet d'une collaboration dans un cadre plus élargi. Coordinateur du programme : SOPRA, Michel Péalat Initiateur du programme : CEA-GRENOBLE/LETI Ce projet consiste à intégrer dans les têtes Multimédia Silicium de la société ALDITECH un nouveau matériau à forte aimantation développé au CEA / LETI. Ce nouveau matériau permettra d'ajouter un atout majeur aux avantages concurrentiels déjà nombreux des têtes d'ALDITECH, dont la technologie est issue du CEA / LETI. Les têtes Multimédia Silicium d'ALDITECH permettent, en effet, d'augmenter considérablement les densités d'information dans le secteur de l'enregistrement haute densité sur cassette (enregistreurs informatiques et multimédia, magnétoscopes, caméscopes) grâce à de très faibles largeurs de pistes et longueurs d 'entrefers. Rappelons que sur une cassette de poche mini-DV coûtant seulement 40 F, on peut aujourd'hui enregistrer 30 Giga-Octets de données (non compressées) et qu'avec les têtes d'ALDITECH, on pourra demain enregistrer 100 à 200 Giga-Octets ! Le CoFeCr, matériau très prometteur étudié au LETI dans le cadre d'une thèse sera optimisé, puis intégré dans les microstructures des têtes d'ALDITECH afin d'augmenter à la fois leur fréquence de fonctionnement et les qualités de l'enregistrement très haute densité sur bandes à haut champ coercitif. Ce matériau sera déposé par la technique d'électrolyse à courants pulsés, maîtrisée par le Laboratoire de Corrosion et de Traitements de Surface de l'Université de Franche Comté. Des prototypes seront réalisés puis testés et caractérisés au niveau de leurs performances électriques, en résistance à l'usure et à la corrosion. - Lecteur optique de biopuces (DNA CHIP) par fluorescence confocale Partenaires du Projet :
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Point de contact : Muriele Bergeon - muriele.bergeon@eu.biomerieux.com Les modules électroniques à ondes de surface sont des éléments clés pour les nouveaux marchés tels que la téléphonie mobile, le multimédia, l'automobile... (Quasi substrats bas coût pour l’électronique de puissance à base de SiC monocristallin reporté sur SiC polycristallin par la technologie Smart-Cut®). A ces jours, un des points s’opposant au démarrage des applications industrielles du SiC concerne l’insuffisance caractérisée de l’offre de substrats SiC tant au niveau qualité et taille que coût et disponibilité. La technologie Smart-Cut“, se positionnant comme une alternative innovante face aux techniques classiques de dépôt de couches minces, s’est révélée être industriellement fiable et particulièrement compétitive dans le cadre de la réalisation de substrats SOI. Ce projet vise à démontrer que cette technologie peut également s‘appliquer au développement de substrats SiC à faible coût. Les notions de qualité et de compatibilité avec la majeure partie des applications visées par ce matériau sont des éléments clés. Parmi les applications les plus exigeantes et les plus prometteuses en termes de marchés, les applications d’électronique de puissance sont visées dans le cadre de ce contrat. On s’attachera donc à adapter la structure des substrats SiC Smart-Cut“ aux besoins de ce type de composants. Partenaires du Projet :
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Point de contact : M. Fabrice Letertre - fabrice.letertre@soitec.fr Puces Ultra Minces de Circuits Intégrés Reportées sur Cartes à Puce. Etudier un procédé d’amincissement du silicium utilisé dans la fabrication de puces pour Smart Cards permettant d’atteindre une épaisseur de l’ordre de 3 µm tout en conservant la possibilité de manipuler les wafers et les puces sur les équipements standards de production d’assemblage des micromodules. Ce procédé devra être le plus indépendant possible des opérations de “Front end”, les multiples fournisseurs de circuits pour les fabricants de cartes ne pouvant accepter de singulariser leurs procédés spécifiques leur appartenant. Partenaires du Projet :
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Point de contact : M. Philippe Patrice - philippe.patrice@gemplus.com Le projet est, à notre connaissance, le premier projet visant à développer l'application des techniques émergentes de la micro-photonique à des lasers solides pompés par diode, les NanoLasers. Le programme devra lever les verrous technologiques liés à l'assemblage, l'alignement dynamique et le packaging de microcomposants, obtenus par fabrication collective sur des microbancs optiques, eux-mêmes produit collectivement. Trois PME de haute technologie se sont associés avec le CEA LETI et utilisent la plate-forme technologique PLATIMO visant à regrouper en réseau les industriels et laboratoires de la micro-photonique. Le programme aura des retombées économiques directes sur Nanolase en terme de croissance soutenue de chiffre d'affaire, d'amélioration de sa capacité d'autofinancement et de création d'emplois et indirectes, mais aussi indirectement sur ses clients et ses fournisseurs, ainsi que sur OpmS, TRONIC'S et le réseau des partenaires de PLATIMO. MIcrocommutateur pour applications RAdiofréquences. Les microtechnologies disponibles au LETI, basées sur les filières silicium CMOS classiques, permettent la réalisation de microcommutateurs mécaniques intégrés. A ce jour, ceux-ci ont été essentiellement conçus pour des applications basses fréquences. Partenaires du Projet :
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Point de contact : M. Christophe Billard - Christophe.billard@cea.fr On assiste depuis quelques années à une explosion de la demande en électronique portable sur différents segments de marché : informatique nomade, téléphonie mobile, badges sans contact, étiquettes électroniques d'identification, etc. Interconnexions Optiques dans les Circuits Intégrés Silicium. Avec la montée en fréquence et l'augmentation de la complexité des circuits intégrés, les interconnexions métalliques en limiteront les performances. Le projet vise à explorer la possibilité d'introduire des interconnexions optiques dans les circuits intégrés silicium, de façon compatible avec les technologies CMOS, préférentiellement sur substrat SOI. On mettra à profit la possibilité de réaliser des microguides dans la couche mince de silicium du SOI, dans les espaces disponibles sous les canaux de routage entre les blocs du CI. Outre la réalisation des microguides, on étudiera d'une part la possibilité de réaliser des modulateurs à base de SiGe/Si, d'autre part l'intégration de photodétecteurs SiGe. Une première phase de deux ans permettra de mettre au point les différents éléments : microguides, couplage de la lumière, photodétecteurs SiGe, dans la technologie compatible CMOS ou BiCMOS et d'étudier la faisabilité de modulateurs. Elle débouchera sur une deuxième phase dans laquelle pourrait être réalisé un démonstrateur complet sur un CI, portant par exemple sur la distribution du signal d'horloge entre blocs fonctionnels. Partenaires du Projet :
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Point de contact : M. Suzanne Laval - suzanne.laval@ief.u-psud.fr Développement des microcellules de décharge et de la physique associée, pour la télévision à écrans à plasma Le projet a pour but le développement des microcellules de décharge constituant les points d'image élémentaires (pixels) des panneaux à plasma, écrans plats de visualisation de la télévision de la prochaine décennie. Partenaires du Projet :
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Point de contact : M. Laurent Tessier - tessierl@thmulti.com |
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